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半导体UV切割膜,具有优良的时间稳定性(T 系列) ,粘附性(随从性)
    发布时间: 2023-03-07 13:51    
半导体UV切割膜,具有优良的时间稳定性(T 系列) ,粘附性(随从性)

UV膜特点之一:实现EASY PICK-UP(容易剥离);

UV膜特点之二:具有防静电型的UV膜

UV膜特点之三:UV膜能够减少背崩以及防止飞料,以及芯片飞溅;

☆宽度(可定做)

1、切割时高粘着力,照射UV后粘度很低捡拾时晶片不飞散,不残胶。

 

2、照射UV反应时间快速,有效提升工作效率。

 

3、保持晶粒在切割中的完整,(无任何晶粒流失)減少切割中所产生的崩碎。

 

4、确保晶粒在正常传送过程中,不会有位移、掉落的情形,水不会渗入晶粒与胶帶之间。

 

5、具有适当的扩张性。

 

6、忌二次使用。贴错位置时,请使用全新胶带,避免胶带再度使用。



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